全新20 nm颗粒计数器助力危险半导体制造环境中关键溶剂化学品的在线监测。
美国科罗拉多州， NIWOT —— 全球污染监测解决方案领导者Particle Measuring Systems（PMS）正式宣布推出 Chem 20™ SM，这是一款专为危险区域环境设计的20 nm溶剂颗粒计数器。该产品可对IPA（异丙醇）、PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯）等关键工艺溶剂进行在线颗粒监测，在获得危险区域认证的同时，无需采用当前行业普遍使用的客户自建防护围护装置，即可实现可靠的在线颗粒监测。
长期以来，半导体制造商在危险溶剂环境中的颗粒监测面临诸多挑战。传统方案通常需要为标准颗粒计数器配置昂贵的定制氮气吹扫正压防护柜，不仅增加了系统复杂性，也提高了部署成本和后期维护需求。Chem 20™ SM是一款专为危险区域安装而设计的一体化解决方案，能够在确保关键污染控制能力的同时，简化安装部署流程。
Particle Measuring Systems副总裁 Badr Astiphan先生表示：“Chem 20™ SM 的开发旨在解决半导体制造行业长期存在的关键难题。通过将20 nm超低颗粒检测能力、危险区域认证以及紧凑易安装的设计相结合，我们帮助客户以更高效率、更高信心地监测关键溶剂化学品中的颗粒污染。”
Chem 20™ SM的主要优势包括：
- 专为危险区域溶剂监测而设计，内置多重安全防护功能；
- 紧凑型在线设计，占用更少安装空间；
- 相较于二次围护方案，实施成本更低；
- 支持7×24小时连续在线监测，并可实现本地及远程数据访问；
- 针对高纯度溶剂应用进行了优化，包括IPA及光刻工艺相关溶剂等关键应用场景。
Chem 20™ SM符合全球危险区域应用要求，包括：IECEx、ATEX、NFPA 70 NEC Class I Division 2。
借助Chem 20™ SM，半导体制造商及化学品供应商能够在更接近工艺过程的位置进行污染监测，更早发现影响良率的颗粒污染事件，同时简化危险区域的安装部署，而无需在性能或安全性方面做出妥协。