使用Ultra DI® 20的超纯水系统监测
当硬盘飞行高度已经小于10nm，半导体制造业通过持续制程以及设备改进，进入了14nm时代，甚至更小。设备尺寸日益变小，相对应的，就需要改进超纯水中的清洁水平。超纯水的纯度特别重要，因为它常常在许多生产步骤中作为最终的清洁剂和清洗剂，直接接触圆晶片。据激光光学以及检测器技术的最新进展，超纯水粒子浓度≥20 nm （金属粒子≥9 nm），则可被有效地监测
这个文件提供给您3种型号的超纯水粒子计数器之间的对比，帮助您确定适合您所需应用的最佳解决方案
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