分子污染&监测-分子光刻技术

出现了一种监测光刻过程中分子污染的新方法。最近的技术进步使连续的实时监测成为可能，在灵敏度和稳定性方面有了显著的进步，同时最小化样品管的影响。

这些改进通过使用一个小型的、低成本的监视器来实现，该监视器专门用于监视单个位置。与传统的多点采样系统相比，专用的使用点监测仪具有以下优点:连续监测、不会遗漏污染事件、样品油管长度从20 – 30米减少到2 – 3米，且拥有超过5 – 10倍的灵敏度。灵敏度和稳定性的改进是通过一种专用的分子污染监测方法实现的。

由于监视器在不断地对相同的环境进行采样，因此可以高效地使用样本平均来减少监测限制。这在化学过滤的环境中尤其有用，因为这些环境的浓度通常较低且稳定。自动监控软件包可以同时绘制一分钟数据点和长期运行平均值。一分钟的样本用于立即监测污染事件的发生，而长期运行的平均样本用于监测最低水平的本底污染。

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